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IUC#40
日時:2006年11月1日(水曜日) 13:30-
場所:KEKBコントロール棟会議室
出席者(順不同・敬称略):
小川、本間、飯田、紙谷、諏訪田、春日、三橋、小林、
菊池、柿原、船越、佐藤(文責)
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(1) KEKBライナック陽電子源へのFlux Concentrator 導入と同時入射スキームへの問題提起 (紙谷)

・現在、BINPと共同で、Flux Concentratorを製作中である。(Linacへのインストールは、2008年夏以降を予定))
 従来のパルスコイル磁場(2-T)と比較して、強ソレノイド磁場が得られる(6から10-T程度)。
現在の穴あきターゲット(e-通過用)を使用する場合、Flux Concentratorのアパーチャを広げる必要があり、
横方向磁場によるビームキック及び必要電力の増大により、製作が困難である。
(アパーチャΦ12mmが必要となる。現試作機ではΦ8mm。)

・そこで、e-/e+高速切り替え用パルスステアリング設置までは、
ターゲットを短い距離だけ出し入れ(標的<=>e-通過用孔の位置)する案はどうか?

C) Flux Concentrator用電源はどの様な物か?
=> 幅20us-30usのハーフサインである。

C) ターゲットの出し入れに時間を要すれば、スタディ時にはやはり問題になるであろう。
(詳細根拠は下記の通り)
・e+モード時にビームが来ないのは困る。
・スタディ時には連続ビームが要求される故、モードの切り替えの周期が数十秒でも不便である。
・2次電子を使用するのはビームの質が通常と異なるので、スタディーの意味がない

C) PFにパルス電源/パルスマグネットの予備品がある。(パルス幅6us, 2500A, Gap 80mmの物が4台ある)
繰り返しは、最大25Hzだが、使えるのではないか?

C) パルスステアリングは何台必要か?

=> 最低3台だが、4台が望ましい。

==> PFの予備品を、来年夏にインストールする方向で検討してはどうか?

===> 設置スペースの調査を含め、検討を行う。
まずは、DCステアリングでバンプ軌道でターゲットの孔を通すスタディーを進める。

C) e-/e+の同時入射を行うためには、入射Phaseも高速に切り替える必要がある。
=> 来年夏までには、可能となる。

C) 共通OpticsでKEKB入射のスタディを行うべきである。
PFは、何度か入射した実績があるが、KEKB e-リングへの入射は試験していない。

C) e+モードも考慮した共通オプティクスを検討すべきである。

C) PFへの入射をA1電子銃からにする?いつから行うか?
共通Opticsを使わなくとも、通常入射にA1電子銃を用いて練習した方がよい。

C) 今後の予定を明確にするべきである。。
=> ロードマップを作成する。